Machine de polissage mécanique chimique de type IDP

Chaque plaque de pression de la machine de polissage chimico-mécanique de la série CP avec entraînement indépendant de la plaque de pression est entraînée par un servo-réducteur séparé. Contrairement à la façon dont la machine CP entraînée par le rouleau de guidage central est entraînée par friction, la machine CP à entraînement indépendant de la plaque de pression peut réaliser un contrôle précis de la vitesse de la plaque de pression. Dans le même temps, en raison de la structure évitant le contact par friction dans la zone de polissage, la génération de particules cristallines de suspension de polissage est réduite. Ainsi, la probabilité de pollution par les particules et de rayures sur la surface de la tranche est réduite ; La vitesse de rotation de chaque plaque de pression de la machine IDP peut être réglée séparément. Selon les caractéristiques du cylindre de pressurisation de chaque plaque de pression, le traitement entraîne une différence presque nulle entre les différentes plaques de pression, qui peut être obtenue grâce à un réglage fin de la vitesse de rotation des plaques de pression.

Pour les machines IDP de grande taille, le positionnement et la commutation de station des plaques en céramique peuvent être réalisés en ajoutant des dispositifs à rouleaux de guidage internes et externes, de manière à réaliser le chargement et le déchargement dans une seule station. Il peut également réaliser la connexion de plusieurs machines en intégrant un manipulateur pour former une ligne de production automatique.

Polisseuse mécanique chimique série IDP TYPE CP

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