Système de gestion des boues de polissage
Les machines de polissage chimico-mécanique de la série LSTD CP sont conçues pour répondre à la demande précise de polissage chimico-mécanique de plaquettes semi-conductrices telles que Si, Ge, GaAs, InP, GaN, SiC, etc. Les machines présentent à la fois une stabilité dynamique et une application personnalisée. Une équipe de conception professionnelle, une équipe de R&D de processus et une équipe de construction de machines ainsi que les installations nécessaires qualifiées garantissent la livraison réussie des équipements semi-conducteurs de la série CP.
Système de distribution de boue de polissage （CDS） :
Fonctions typiques :
▲ gestion du stockage du fût de liquide brut
▲ transport automatique (à distance) de la solution mère
▲ approvisionnement sûr en solution mère
▲ maintenance sans arrêt du système d'alimentation en solution mère
Mélange de boue de polissage et système d'alimentation central :
Fonctions typiques :
▲ dilution quantitative de la solution de polissage
▲ mélange de solution de polissage
▲ contrôle de la température du liquide de polissage
▲ fonction anti-cristallisation et nettoyage du baril et du pipeline de liquide de polissage
▲filtration et transport à distance du liquide de polissage fini
▲ maintenance sans arrêt du système
Système d'alimentation et de recirculation de boue de polissage :
Fonctions typiques :
▲ dilution quantitative de la solution de polissage
▲ mélange de solution de polissage
▲ contrôle de la température du liquide de polissage
▲ fonction anti-cristallisation et nettoyage du baril et du pipeline de liquide de polissage
▲filtration et transport à distance du liquide de polissage fini
▲ maintenance sans arrêt du système
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Une paire de
Machine à roder multifonction MFL-400Un article
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